研磨粉的主要作用是在于研磨方面（去毛边、批锋、斑纹、氧化皮等），其具有一定的切削力，能使工件研磨后表面相对平整且为后序抛光提供良好的处理基面。研磨是抛光的前工序。
抛光粉具有轻微的切削力，主要作用是使工件表面达到亮光的效果。值得注意的是，在生产方面对抛光粉的要求比研磨粉要高。
抛光粉通常由氧化铝、氧化硅、氧化锆、氧化铈等成份组成。材料的硬度不同，在水中的化学性质就不同，因此使用场合也不尽相同。氧化铝和氧化锆的莫氏硬度为9，氧化铈和氧化硅为7，而氧化铁更低。氧化铈与硅酸盐玻璃的化学活性较高，硬度也相当，因此广泛用于玻璃的抛光。
研磨粉具有硬度高、韧性好、纯度高、自锐性优、磨削性强、发热量小、效率高、耐酸碱腐蚀、耐高温、热稳定性好等特点。
生产方面对抛光粉的基本要求：
粒度均匀一致；
高纯度，不含机械杂质；
良好的分散性和悬浮，以保证加工过程的均匀和高效；
粉末颗粒有一定的晶格形态，破碎时形成锐利的棱角，以提高抛光效率；
有合适的硬度和密度，和水有很好的浸润性和悬浮性，因为抛光粉需要与水混合粒度越大的抛光粉，磨削力越大，越适合于较硬的材料。
所有抛光粉的颗粒度都有一个分布问题，平均粒径或中位径的大小只决定了抛光速度的快慢，而最大粒径决定了抛光精度的高低。因此，要满足高精度要求，必须对抛光粉的最大颗粒范围进行控制。普通抛光粉之所以会出现划痕，就是有大颗粒的原因，所以一般选择粒径分布范围窄的纳米抛光粉。
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