CMP抛光垫是一种无纺布垫，作为抛光垫表现出高性能、稳定性和可靠性，可用于从硅晶片、玻璃基板、蓝宝石基板到 GaN / SiC 基板的各种类型的基板。以可用于各种用途的广泛产品系列实现理想的抛光效果。由于坚固的垫结构，它在高抛光率、高平整度和长寿命之间取得了平衡。
CMP抛光垫优势：

1. 致密均匀的垫结构保持高抛光稳定性和抛光残留物排出。

2. 有效降低Ra，可同时实现高抛光率和低划痕抛光。

3. 非常适合去除前道工序中的划痕和抛光边缘。

4. 可有效保持板外圆周的形状，并可实现高平整度。

5. 它是抛光蓝宝石、GaN 和 SiC 等衬底的理想选择。